Filtr Kf Filtr Uv Ultra Low Reflection K&f Concept Nano-x Mrc 37 Mm 37mm / Kf01.2456

Fabricant: Kf

100,49 PLN

Disponibilité: 10 pièces
Expédition: Dans 4 jours
Livraison à partir de: 899,00 PLN

Nombre de pièces

Offre du jour
- 162,40 PLN

La prochaine offre de

~~365,64 PLN~~ Najniższa cena

203,24 PLN

Klawiatura APPLE MK2A3LB/A

Disponibilité: Dernière pièce !
Expédition: Aujourd'hui
Livraison à partir de: 38,00 PLN

Restant 1 depuis 1 pcs.

Prix le plus bas à partir de 30 jours avant la remise : 365,64 PLN

Description

En savoir plus sur ce produit.

.flex-container {display: flex; padding: 3%;} .flex-item {flex: 1; padding: 2%;} .content-image {max-width: 100%;height: auto;}Filtr UV NANO-X MRC Niski poziom odblasków Rozmiar filtra: 37 mm FILTR NAJWYŻSZEJ JAKOŚCI DEDYKOWANY DLA PROFESJONALISTÓW FILTR Z NANO-POWŁOKAMI Wysoka redukcja odblasków o współczynniku 0.1%,redukuje 99.9% spolaryzowanego światła i jest bardzo przepuszczalny Zaawansowana technologia tytanowego powlekania eliminuje zażółcenie obrazu Ultra HD - wysoka rozdzielczość optyczna szkła 28 Nano-powłok antyrefleksyjnych i ochronnych Niski profil typu SLIM (tylko 3.3mm grubości) Pierścień wykonany z czernionego aluminium W zestawie solidne opakowanie do przechowywania filtra Produkt firmy: K&F CONCEPT - lider jakości produkcji filtrów fotograficznych MODEL: KF01.2456 / 37 mm NANO X UV Niski poziom odblaskówFirma K&F CONCEPT prezentuje wysokiej jakości, profesjonalne filtry UV. To są filtry z najwyższej półki, nie ma wielu filtrów, które dorównują im jakości wykonania i zaawansowania. Filtr posiada kilkadziesiąt nano-powłok, które są nakładane warstwami na optyczne szkło. Filtr ultrafioletowy - UV absorbuje promieniowanie ultrafioletowe, przetnie promieniowanie, które występuje w największej ilości w warunkach, gdzie powietrze jest niezwykle przejrzyste (szczególnie w górach i nad morzem), co na zdjęciu tworzy zamglenie. Filtr UV NANO-X MRC nie tylko poprawia jakość zdjęć, ale także doskonale chroni obiektyw przed pyłkami, tłuszczami, kurzem i uszkodzeniami mechanicznymi. Cechy filtra K&F UV NANO-X MRC: Wykonany z najwyższej jakości japońskiego optycznego szkła, co powoduje, że transmisja światła wynosi ponad 99.9% Filtr posiada specjalne nano-powłoki, które znacząco redukują odblaski i poprawiają jakość zdjęć. Filtr pokryty jest powłokami, które charakteryzują się wysoką odpornością na zarysowania i uszkodzenia mechaniczne. Powłoki ułatwiają czyszczenie filtrów i zapobiegają nadmiernemu przyciąganiu kurzu, pyłków i innych zanieczyszczeń. Doskonałe proporcje jakości do ceny. Filtr UV NANO-X MRC dedykowany dla wszystkich aparatów i kamer z obiektywem o średnicy 37mm. Olympus PEN: E-PL9 / E-PL8 / F / E-PL6 / E-PL7 / E-P5 / E-PM2 / E-PL5 / E-P3 / E-PL3 / E-PM1 z obiektywem 14-42mm 1:3.5-5.6 L ED (fi 37mm)SPECYFIKACJA FILTRA: Wykonany z najwyższej jakości japońskiego optycznego szkła NANO-X MRC - nano-powłoki antyrefleksyjne i ochronne Nie zmienia barw kadru - jest całkowicie neutralny Super cienka i lekka aluminiowa ramka typu SLIM o grubości tylko 3.3mm Tytanowa powłoka Nie wpływa negatywnie na działanie autofokusu Solidne pudełko ochronne dla filtra w zestawie Filtr pokryty powłokami, które są odporne na zarysowania i uszkodzenia mechaniczne. Doskonale chronią filtr nawet w najtrudniejszych warunkach Filtr posiada powłoki, które ułatwiają czyszczenie filtrów i zapobiegają nadmiernemu przyciąganiu kurzu, pyłków i innych zanieczyszczeń W zestawie: 1x filtr 1x solidne, sztywne opakowanie, które chroni filtr przed zarysowaniami, uszkodzeniami i ułatwia jego transport Przykładowe zastosowanie filtra K&F CONCEPT NANO-X MRCUwaga!