Filtr Kf Filtr Uv Nano-x Mrc K&f Concept Do Fujifilm X100 X100s X100v X100f X100vi / Kf01.2703

.flex-container {display: flex; padding: 3%;} .flex-item {flex: 1; padding: 2%;} .content-image {max-width: 100%;height: auto;}Filtr fototapetowy UV NANO-X MRC Przeznaczony do aparatów FujiFilm: X100VI X100V X100F X100T X100S X100 FILTR NAJWYŻSZEJ JAKOŚCI DEDYKOWANY DLA PROFESJONALISTÓW FILTR Z INNOWACYJNYMI NANO-POWŁOKAMI Nowa technologia pokrywania tytanem (powłoka tytanowa) skutecznie eliminuje ewentualne zażółcenie obrazu Filtr zapobiega odbiciom i efektom podświetlenia oraz zapewnia idealną ostrość obrazu Ultra HD - wysoka rozdzielczość optyczna użytego szkła 28 nano-powłok antyrefleksyjnych i ochronnych Ekstremalnie niski profil typu SLIM (zaledwie 3,3 mm grubości) Pierścień wykonany z aluminium pokrytego galwanicznie ciemnym kolorem Zestaw zawiera solidne opakowanie do przechowywania filtra FILTR Z INNOWACYJNYMI NANO-POWŁOKAMI Wysoka rozdzielczość optyczna użytego szkła NANO-X MRC - nano-powłoki antyrefleksyjne i ochronne Ekstremalnie niski profil typu SLIM (zaledwie 3,3 mm grubości) Pierścień wykonany z aluminium pokrytego galwanicznie ciemnym kolorem Zestaw zawiera solidne opakowanie do przechowywania filtra Produkt firmy: K&F CONCEPT - niekwestionowany lider jakości w produkcji filtrów fotograficznych MODEL: KF01.2703 / UV MRCFirma K&F CONCEPT prezentuje wyjątkowej jakości, profesjonalne filtry UV. Stanowią one filtry premium, niewiele filtrów dorównuje im jakości wykonania i poziomowi zaawansowania. Filtr posiada wiele warstw nano-powłok nałożonych na soczewkę optyczną. Filtr ultrafioletowy - UV absorbuje promieniowanie ultrafioletowe, przycinając promieniowanie, które jest najbardziej intensywne w warunkach, gdzie powietrze jest niezwykle klarowne (szczególnie w górach i nad morzem), a które powoduje zamglenie na zdjęciach. Filtr UV NANO-X MRC poprawia jakość zdjęć i jednocześnie doskonale zabezpiecza obiektyw przed wszelkiego rodzaju pyłkami, tłuszczami, kurzem oraz uszkodzeniami mechanicznymi. Cechy filtru K&F UV NANO-X MRC: Wykonany ze szkła optycznego najwyższej jakości, co pozwala na wysoką transmisję światła (ponad 99,9%) Filtr posiada specjalne nano-powłoki, które skutecznie redukują odblaski i poprawiają jakość zdjęć Filtr pokryto powłokami, które cechuje wysoka odporność na rysowanie i uszkodzenia mechaniczne. Powłoki ułatwiają również czyszczenie filtrów i zapobiegają nadmiernemu przyciąganiu kurzu, pyłków i innych zanieczyszczeń. Doskonałe proporcje jakości do ceny. X100VI X100V X100F X100T X100S X100 SPECYFIKACJA FILTRA: Wykonany z najwyższej jakości, japońskiego szkła optycznego NANO-X MRC - nano-powłoki antyrefleksyjne i ochronne Bez zmiany kolorystyki kadru - jest całkowicie neutralny Super cienka i lekka, aluminiowa ramka typu SLIM o grubości zaledwie 3,3 mm Powłoka tytanowa Nie ma negatywnego wpływu na działanie układu AUTOFOCUS Solidne pudełko ochronne na filtr w zestawie Filtr pokryto powłokami, które cechuje wysoka odporność na rysowanie i uszkodzenia mechaniczne. Stanowią one doskonałe zabezpieczenie filtru nawet w trudnych warunkach Filtr posiada powłoki, które ułatwiają czyszczenie filtrów i zapobiegają nadmiernemu przyciąganiu kurzu, pyłków i innych zanieczyszczeń W zestawie: 1x filtr 1x solidne, sztywne opakowanie chroniące filtr przed zarysowaniami, uszkodzeniami i ułatwiające transport Przykładowe zastosowanie filtru K&F CONCEPT NANO-X MRCUwaga!