K&F Filtr UV K&F Concept Nano-X MRC UV - 55 mm

PLN 61,16

Tilgjengelighet: 16 stk
Frakt: Om 2 dager
Leveranse fra: Ingen rekvisita tilgjengelig for dette produktet

Antall stykker

Dagens tilbud
- PLN 201,79

Neste tilbud om

~~PLN 445,68~~ Najniższa cena

PLN 243,89

Intel Pentium G4560 3,5GHz 3M LGA1151 BX80677G4560 OEM

Tilgjengelighet: 2 stykker
Frakt: I morgen
Leveranse fra: Ingen rekvisita tilgjengelig for dette produktet

Gjenstår 1 fra 1 stk.

Laveste pris fra 30 dager før rabatt: PLN 445,68

Beskrivelse

Finn ut mer om produktet.

Filtr UV K&F Concept Nano-X MRC UV to "must have" każdego fotografa, który chce lepiej zabezpieczyć swój obiektyw i znacząco poprawić jakość zdjęć. Kompatybilny z gwintem 55 mm, zapewnia skuteczną ochronę przed kurzem, zanieczyszczeniem i odciskami palców. Skutecznie redukuje efekty szkodliwego promieniowania UV, poprawiając jakość zdjęć. Szkło optyczne Premium HD japońskiej firmy AGC, gwarantuje nie tylko doskonałą ostrość i reprodukcję kolorów, ale także niezwykłą trwałość. Dodatkowo 28-warstwowa powłoka NANOTEC sprawia, że filtr jest łatwy w czyszczeniu i odporny na zarysowania. Innowacyjna, ultracienka ramka eliminuje problem winietowania podczas pracy z długimi teleobiektywami. W zestawie znajdziesz również praktyczne etui ochronne.

Filtr UV K&F Concept Nano-X MRC UV

Główne cechy produktu

filtr UV kompatybilny z gwintem 55 mm
chroni obiektyw przed kurzem, zanieczyszczeniem i odciskami palców
dodatkowa ochrona przed uszkodzeniami mechanicznymi przedniej soczewki obiektywu
redukuje efekty promieniowania UV, takie jak zamglenia, poprawiając jakość zdjęć
idealny do fotografii krajobrazowej – eliminuje zamglenia atmosferyczne
wykonany ze szkła optycznego japońskiej firmy AGC
szkło optyczne Premium HD zapewnia wyjątkową ostrość i reprodukcję kolorów
28-wartstwowa powłoka NANOTEC zapewnia redukcję odblasków
powłoka zapewnia transmisję światła na poziomie 99,6%
hydrofobowe właściwości powłoki pomagają utrzymać filtr w czystości
ultracienka ramka (3,3 mm grubości) zapobiega winietowaniu na obiektywach szerokokątnych
etui ochronne w zestawie

Poprawa jakości zdjęć

Filtr UV to niezastąpiony dodatek w torbie każdego fotografa. Dzięki niemu nie tylko skutecznie ochronisz przednią soczewkę obiektywu przed kurzem, zarysowaniami i odciskami palców, ale także podniesiesz jakość swoich zdjęć. Dzięki wielopowłokowej konstrukcji filtr UV K&F Concept Nano-X MRC UV pomaga zredukować zamglenia atmosferyczne, pozytywnie wpływając na kontrast i wyrazistość fotografii.

Filtr UV K&F Concept Nano-X MRC UV - Poprawa jakości zdjęć

Ochrona przed promieniowaniem UV

Promieniowanie UV, obecne w otoczeniu nawet w pozornie idealnych warunkach pogodowych, może powodować niepożądane efekty, takie jak zamglenia, spadek kontrastu lub nieostrość zdjęć. Filtr UV K&F Concept Nano-X MRC UV działa jak niewidzialna bariera, przez którą przepuszczane jest światło. Eliminuje wpływ promieniu UV na Twoje zdjęcia, pozytywnie oddziałując na klarowność obrazu.

Filtr UV K&F Concept Nano-X MRC UV - Ochrona przed promieniowaniem UV

Szkło optyczne Premium HD

Sercem filtra UV K&F Concept Nano-X MRC UV jest niezawodne szkło optyczne japońskiej firmy AGC, która słynie z topowej jakości swoich produktów, za którymi stoi ponad 120 lat doświadczenia. Wyróżnia je wyjątkowa trwałość i doskonałe parametry transmisji światła. Dzięki wzmocnieniu chemicznemu jest ono 4 razy trwalsze niż standardowe szkło stosowane w konkurencyjnych filtrach.

Filtr UV K&F Concept Nano-X MRC UV - Szkło optyczne Premium HD

Wielowarstwowa powłoka Nanotec

28-warstwowa powłoka to gwarancja trwałości i najlepszej ochrony. Filtr UV K&F Concept Nano-X MRC UV jest odporny na zarysowania i posiada właściwości hydrofobowe. Oznacza to, że ze szkła bardzo łatwo usuwa się wodę lub tłuste plamy. Dzięki zaawansowanej technologii Nanotec transmisja światła wynosi tu aż 99,6%. Dzięki temu nie musisz martwić się o irytujące odblaski. Z tym filtrem Twoje zdjęcia zachowają prawdziwe kolory i naturalną głębię.

Filtr UV K&F Concept Nano-X MRC UV - Wielowarstwowa powłoka NANOTEC

Żadnego winietowania!

Innowacyjna ramka filtra UV K&F Concept Nano-X MRC UV ma zaledwie 3,3 mm grubości. Tak cienka konstrukcja pozwala skutecznie uniknąć efektu winietowania, nawet wtedy, gdy korzystasz z długich teleobiektywów, oferujących duże ogniskowe. Twoje kadry pozostaną klarowne i wyraźne, zachowując pełną przejrzystość nawet przy dużych zbliżeniach.

Filtr UV K&F Concept Nano-X MRC UV - Żadnego winietowania!

Kompatybilność

obiektywy z gwintem mocowania filtrów o przekątnej 55 mm

Specyfikacja

model: filtr UV K&F Concept Nano-X MRC UV - 55 mm
materiał: stop aluminium lotniczego
typ filtra: UV
szkło: japońskie szkło AGC
powłoka: NANOTEC (28 warstw)
przepuszczalność: 99,6%
grubość: 3,3 mm
średnica gwintu: 55 mm

Zawartość zestawu

filtr UV K&F Concept Nano-X MRC UV - 55 mm
etui ochronne

Spesifikasjon

Oppdag alle mulighetene med produktet.

Informacje podstawowe

EAN

6936069227284

Kod producenta

KF3981

Identyfikator produktu

2326567

Anmeldelser

0.00 /5

(0 Anmeldelser)

Info

Brak recenzji

Sist viste produkter

Se historikken over sist besøkte produkter.

Delsum:	PLN 0,00
MVA-beløp:	PLN 0,00
Betalingskostnad:	PLN 0,00

Abonner på vårt nyhetsbrev og

Leveringssted