Filtr Cameron Sino FILTR UV Ultra Low Reflection K&F CONCEPT NANO-X MRC 55 mm 55mm / KF01.2462

.flex-container {display: flex; padding: 3%;} .flex-item {flex: 1; padding: 2%;} .content-image {max-width: 100%;height: auto;}Ochrona przed światłem UV NANO-X MRC Ultra-Małe Odbicie Rozmiar filtra: 55 mm Najwyższej jakości filtr Dedykowany dla profesjonalistów Filtr z innowacyjnymi nano-powłokami Bardzo niski współczynnik odbicia 0,1%,redukuje 99,9% spolaryzowanego światła i ma bardzo wysoką przepuszczalność Nowa technologia powlekania tytanem (powłoka tytanowa) skutecznie eliminuje ewentualne zażółcenie obrazu Ultra HD - wysoka rozdzielczość optyczna użytego szkła 28 Nano-powłok antyrefleksyjnych i ochronnych Super mały profil typu SLIM (jedyne 3,3mm grubości) Pierścień wykonany z  aluminium czernionego galwanicznie W zestawie wytrzymałe opakowanie do przechowywania filtra Produkt firmy: K&F CONCEPT - lider jakości w produkcji filtrów fotograficznych MODEL: KF01.2462 / 55 mm NANO X UV Ultra-Małe OdbicieFirma K&F CONCEPT prezentuje filtry UV znakomitej jakości. To filtry najwyższej klasy, które dorównują tylko niewielu innym filtrom pod względem jakości wykonania i zaawansowania. Filtr posiada wiele nano-powłok nałożonych warstwowo na optyczne szkło. Filtr ultrafioletowy - UV absorbuje promieniowanie ultrafioletowe, eliminując promieniowanie, które najbardziej intensywnie występuje w warunkach o bardzo czystym powietrzu (szczególnie w górach i nad morzem), powodując zamglenie na zdjęciu. Filtr UV NANO-X MRC nie tylko poprawia jakość zdjęć, ale także doskonale chroni obiektyw przed pyłkami, tłuszczami, kurzem oraz mechanicznymi uszkodzeniami. Cechy filtru K&F UV NANO-X MRC: Wykonany z najwyższej jakości japońskiego szkła optycznego, co zapewnia wysoką transmisję światła powyżej 99,9% Filtr posiada specjalne nano-powłoki, które znacznie redukują odbicia i poprawiają jakość wykonanych zdjęć. Filtr jest pokryty powłokami, które cechuje wysoka odporność na zarysowania i uszkodzenia mechaniczne. Powłoki ułatwiają czyszczenie filtrów i zapobiegają nadmiernemu przyciąganiu kurzu, pyłków i innych zanieczyszczeń. Doskonałe związanie ceny oraz jakości. Filtr UV NANO-X MRC jest dedykowany do wszystkich aparatów i kamer ze średnicą obiektywu 55 mm. Filtr dedykowany jest m.in. do: NIKON D5500 / D5300 / D5200 / D3400 / D3300 / D3200 z obiektywami: Nikon / Nikkor AF-P DX 18-55 mm f/3.5-5.6G lub Nikon / Nikkor AF-P DX 18-55 mm f/3.5-5.6G VR Filtr pasuje m.in. do aparatów posiadających następujące modele obiektywów: Nikon: NIKKOR AF-P DX 18-55 mm f/3.5-5.6G NIKKOR AF-P DX 18-55 mm f/3.5-5.6G VR NIKKOR VR 10–100 mm f/4,0–5,6 Sony: 18-70mm F3.5-5.6 DT 18-55mm F3.5-5.6 SAM SAL-1855-2 SAL-1855 SAL-35F14G SAL-35F18 SAL-50F14 SAL-50M28 SAL-85F28 SAL-75300 SAL-55200-2 SAL-100M28 Tamron: AF 60mm F/2 Di II LD (IF) Macro 1:1 AF 90mm SP F/2.8 Di Makro Sigma: 50-200 F4-5.6 DC OS HSM 50 F2.8 EX DG MACRO SPECYFIKACJA FILTRA: Wykonany z najwyższej jakości japońskiego szkła optycznego NANO-X MRC - nano-powłoki antyrefleksyjne i ochronne Nie zmienia kolorystyki kadru - jest całkowicie neutralny Super cienka i lekka, aluminiowa ramka typu SLIM o grubości jedyne 3,3mm Tytanowa powłoka Brak negatywnego wpływu na pracę autofokusa Wytrzymałe opakowanie ochronne na filtr w zestawie Filtr jest pokryty powłokami, które cechuje wysoka odporność na zarysowania i uszkodzenia mechaniczne. Jest to doskonałe zabezpieczenie filtra nawet w najtrudniejszych warunkach Filtr posiada powłoki, które ułatwiają czyszczenie filtrów i zapobiegają nadmiernemu przyciąganiu kurzu, pyłków i innych zanieczyszczeń W zestawie: 1x filtr 1x wytrzymałe, sztywne opakowanie zapobiegające zarysowaniom, uszkodzeniom oraz ułatwiające transport filtra Przykładowe zastosowanie filtru K&F CONCEPT NANO-X MRCUwaga!